是呀，這不符合阿斯麥的一貫作風(fēng)的，阿斯麥?zhǔn)遣豢赡軐?0臺(tái)光刻機(jī)推出去的……等等，這家伙要購(gòu)買10臺(tái)光刻機(jī)？

    這可是上億美元的大單呀！！

    木村真琴賣出去的那只腳硬生生的收了回來，他幾乎沒有任何猶豫，就重新做到了黃鶴對(duì)面，然后主動(dòng)低頭道“黃桑，請(qǐng)?jiān)徫覄偛诺氖ФY，你應(yīng)該能夠理解我的態(tài)度的，非常抱歉！”

    堂堂的尼康社長(zhǎng)木村真琴，居然就這么非常干脆的向黃鶴道歉了，這簡(jiǎn)直是一件看上去非常不可思議的事情，畢竟韓國(guó)人折騰了幾十年的時(shí)間，都沒有換來日本人的一句道歉，結(jié)果木村真琴現(xiàn)在就非常干脆的道歉了。

    這里就必須要提到日本人的兩面性了，在日本，道歉是最簡(jiǎn)單也是最困難的事情，在不涉及利益，或者要損失利益的情況下，你讓日本人道歉是絕對(duì)不可能的，你就算憤怒的把他的大使館給砸了，那也是不可能的。

    但是相反，如果一個(gè)道歉能夠帶來巨大的利益的話，那么之間找來蒲團(tuán)，跪在上面，恭恭敬敬的向你道歉。

    木村真琴大概就是這樣的情況，且不說阿斯麥的事情，如果十臺(tái)光刻機(jī)是真的，那木村真琴無論如何道歉，也要把黃鶴這個(gè)客戶給籠絡(luò)到手中的。

    “日本人能夠成功，果然不是沒有原因的！”黃鶴感嘆一聲，然后接著說道“既然木村社長(zhǎng)的態(tài)度如此誠(chéng)懇，那我也不跟您彎彎繞繞了，我直接說吧，阿斯麥已經(jīng)得到了跨越50納米的技術(shù)極限的鑰匙了，最遲兩年的時(shí)間，阿斯麥的第1臺(tái)48納米級(jí)別的光刻機(jī)就能夠上市。”

    “這不可能！”木村真琴又一次高呼出了不可能三個(gè)字，但這一回他腦門上全部都是汗水，身上穿的和服，甚至都在這一瞬間被汗水給浸透了。

    50納米的技術(shù)極限，這是全球捆在所有光刻機(jī)企業(yè)脖子上的繩索，自從10年前到達(dá)這個(gè)極限之后，無論是尼康還是佳能，幾乎每年都要投入1-2億美元的巨額資金來研發(fā)突破這個(gè)極限的途徑。

    為了突破這個(gè)極限，全球各個(gè)光刻機(jī)行業(yè)的專家們提出了幾種途徑，其中包括157nm F2激光，電子束投射，離子投射、EUV和X光，并形成了以下幾大陣營(yíng)：

    其中F2激光技術(shù)，這是目前在理論和技術(shù)上最為成熟的陣營(yíng)，在浸潤(rùn)式光刻機(jī)出現(xiàn)之前，幾乎所有的光刻機(jī)企業(yè)研究的都是這個(gè)技術(shù)，目前是美國(guó)的SVG和日本的尼康，在這兩個(gè)技術(shù)上走的最遠(yuǎn)，尤其是尼康，他們估計(jì)再有個(gè)5年左右的時(shí)間，就能夠拿出最終的產(chǎn)品出來了。

    但是這個(gè)技術(shù)有一個(gè)巨大的缺陷，那就是生產(chǎn)成本巨大，改造成本也更加的巨大，而且這個(gè)技術(shù)的天花板，也就是從50納米提高到了40納米左右，提升的幅度只有20%，是典型的投入和產(chǎn)出相差極大的案例。

    如果用這種辦法制造出來的芯片，最早是現(xiàn)在同等級(jí)芯片的價(jià)格的三倍以上，如果投放到市場(chǎng)上，他未來所有頂級(jí)芯片的旗艦手機(jī)的起步價(jià)格，就最少要提交2000元人民幣左右了。

    但這依然是目前最有可能成功的技術(shù)。

    EUV技術(shù)，這是技術(shù)前景最為光明的，但也是最困難的技術(shù)，因?yàn)檫@個(gè)技術(shù)要從直接改革光源入手，將目前的光刻機(jī)光源改革成為紫光，直接從光源上，把50納米的極限提升到13.5納米的極限，提升幅度可謂巨大，絕對(duì)是市場(chǎng)前景最為廣闊的技術(shù)。

    這個(gè)技術(shù)難度極高不說，關(guān)鍵是幾乎所有的專利和門檻都掌握在美國(guó)人的手里面，分布在英特爾，AMD，摩托羅拉和美國(guó)能源部這些單位之中，尼康手里面幾乎沒有這方面任何的技術(shù)專利。