是呀，這不符合阿斯麥的一貫作風的，阿斯麥是不可能將10臺光刻機推出去的……等等，這家伙要購買10臺光刻機？

    這可是上億美元的大單呀??！

    木村真琴賣出去的那只腳硬生生的收了回來，他幾乎沒有任何猶豫，就重新做到了黃鶴對面，然后主動低頭道“黃桑，請原諒我剛才的失禮，你應該能夠理解我的態度的，非常抱歉！”

    堂堂的尼康社長木村真琴，居然就這么非常干脆的向黃鶴道歉了，這簡直是一件看上去非常不可思議的事情，畢竟韓國人折騰了幾十年的時間，都沒有換來日本人的一句道歉，結果木村真琴現在就非常干脆的道歉了。

    這里就必須要提到日本人的兩面性了，在日本，道歉是最簡單也是最困難的事情，在不涉及利益，或者要損失利益的情況下，你讓日本人道歉是絕對不可能的，你就算憤怒的把他的大使館給砸了，那也是不可能的。

    但是相反，如果一個道歉能夠帶來巨大的利益的話，那么之間找來蒲團，跪在上面，恭恭敬敬的向你道歉。

    木村真琴大概就是這樣的情況，且不說阿斯麥的事情，如果十臺光刻機是真的，那木村真琴無論如何道歉，也要把黃鶴這個客戶給籠絡到手中的。

    “日本人能夠成功，果然不是沒有原因的！”黃鶴感嘆一聲，然后接著說道“既然木村社長的態度如此誠懇，那我也不跟您彎彎繞繞了，我直接說吧，阿斯麥已經得到了跨越50納米的技術極限的鑰匙了，最遲兩年的時間，阿斯麥的第1臺48納米級別的光刻機就能夠上市?！?br/>
    “這不可能！”木村真琴又一次高呼出了不可能三個字，但這一回他腦門上全部都是汗水，身上穿的和服，甚至都在這一瞬間被汗水給浸透了。

    50納米的技術極限，這是全球捆在所有光刻機企業脖子上的繩索，自從10年前到達這個極限之后，無論是尼康還是佳能，幾乎每年都要投入1-2億美元的巨額資金來研發突破這個極限的途徑。

    為了突破這個極限，全球各個光刻機行業的專家們提出了幾種途徑，其中包括157nm F2激光，電子束投射，離子投射、EUV和X光，并形成了以下幾大陣營：

    其中F2激光技術，這是目前在理論和技術上最為成熟的陣營，在浸潤式光刻機出現之前，幾乎所有的光刻機企業研究的都是這個技術，目前是美國的SVG和日本的尼康，在這兩個技術上走的最遠，尤其是尼康，他們估計再有個5年左右的時間，就能夠拿出最終的產品出來了。

    但是這個技術有一個巨大的缺陷，那就是生產成本巨大，改造成本也更加的巨大，而且這個技術的天花板，也就是從50納米提高到了40納米左右，提升的幅度只有20%，是典型的投入和產出相差極大的案例。

    如果用這種辦法制造出來的芯片，最早是現在同等級芯片的價格的三倍以上，如果投放到市場上，他未來所有頂級芯片的旗艦手機的起步價格，就最少要提交2000元人民幣左右了。

    但這依然是目前最有可能成功的技術。

    EUV技術，這是技術前景最為光明的，但也是最困難的技術，因為這個技術要從直接改革光源入手，將目前的光刻機光源改革成為紫光，直接從光源上，把50納米的極限提升到13.5納米的極限，提升幅度可謂巨大，絕對是市場前景最為廣闊的技術。

    這個技術難度極高不說，關鍵是幾乎所有的專利和門檻都掌握在美國人的手里面，分布在英特爾，AMD，摩托羅拉和美國能源部這些單位之中，尼康手里面幾乎沒有這方面任何的技術專利。