光刻膠的成膜性能，主要應用于剛性或柔性物體表面的微紋，對基材具有良好的潤濕性、優(yōu)良的成膜性能、厚度均勻及無氣孔缺陷，容易成膜。

    壓印性能的標準則是因為在壓印過程中應用的光刻膠與傳統(tǒng)的曝光法有很大不同，如果硬度太大，會引起壓印力的增加，很可能會導致模板的損壞。

    硬度及粘度、固化速率、界面特性以及抗刻蝕能力也都是重中之重。

    畢竟光刻膠的主要用途是作為防蝕劑來轉(zhuǎn)移微圖像，這一過程需要有選擇地刻蝕，也就是在沒有光刻膠保護的零件上進行刻蝕，有光刻膠的部分因其耐刻蝕能力而受到保護，從而達到圖形傳遞的目的。

    每一個項目的參數(shù)都至關重要，每一個小項目的負責人以及實驗人員無一不是翹首以盼，希望自己負責的項目可以通過。

    但在沒有將所有項目公布完之前，沒有一位實驗員大聲慶祝，因為在這些時日的攻克難題當中，他們早就已經(jīng)成為了戰(zhàn)友。

    這是一場沒有硝煙，只有材料與光學的戰(zhàn)爭。

    隨著項目測試的成績一項一項被周瑜報出來，等到最后周瑜說出設備的結(jié)論成果時：“適用于45納米制程工藝……”

    嘩啦啦的掌聲和略顯壓抑的吶喊聲頓時響起。

    但是僅僅就這么幾秒鐘，實驗室內(nèi)眾人都趕忙停下了幅度過大的動作。

    雖然是在實驗室的公共區(qū)域，這里沒有什么精密儀器，但是眾人還是下意識想保護儀器設備的穩(wěn)定狀態(tài)。

    畢竟在半導體領域，一個大分貝噪音都有可能影響到實驗結(jié)果。

    但是激烈的慶祝不行，走動之間，握手、相擁慶祝卻是沒有禁止。

    呼……

    楊剛省深深的呼吸了幾次，在整個實驗項目當中，他的壓力是最大的。

    畢竟當初他從臺積電離開之后，雖然已經(jīng)安穩(wěn)度過競業(yè)協(xié)議規(guī)定的時間，但是卻還要保證在整個試驗的過程中，不能將臺積電獨有的專利技術拿出來，所以每次都要小心翼翼的進行探索，每天晚上睡覺前，他本人甚至還要在腦海里復盤白天的工作，檢討每一處細節(jié)。

    周瑜在一旁，拍了拍楊剛省的肩膀。

    “辛苦了，有了這個開端，我們大夏聯(lián)邦也能夠有真正自主的半導體材料產(chǎn)業(yè)了，假以時日，我們也能做到全球頂尖。”