第574章 設(shè)備
在繁榮的經(jīng)濟發(fā)展陽光之下,是大夏聯(lián)邦的高精尖科技一直都被西方企業(yè)“嚴防死守”。
當初開發(fā)芯片設(shè)計項目,這些大夏聯(lián)邦的高校教授和海歸員工們還能夠提建議,給素材,但是當科技進步的步伐來到了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的光刻機設(shè)備和光源技術(shù)的開發(fā)時,已然步履維艱。
要達到國際先進制造水平,并不是一日之功可畢。
周瑜雖然一直不想過多參與半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)發(fā)展當中,但是隨著國外實驗室數(shù)據(jù)和技術(shù)方案給出的技術(shù)級別已經(jīng)達到世界先進水平后,他已然沒有辦法“坐以待斃”。
畢竟國外實驗室并非是阿拉丁神燈,不可能存在項目都還沒有做,就冒出數(shù)據(jù)和方案的情況。
而且再進一步,就是真的技術(shù)革新了,國外頂級實驗室要是有這技術(shù),不早就成立公司開始賺大錢了?
所以在陸續(xù)的交流合作當中,周瑜開始逐漸展露其在高精尖制造領(lǐng)域的敏銳嗅覺和天才想法。
“阿斯麥公司的EUV光刻機,采用的是高能脈沖激光轟擊液態(tài)錫靶,形成等離子體,誕生波長13.5納米的EUV光源,根據(jù)這份數(shù)據(jù),其至少有250瓦的功率。
隨著半導(dǎo)體芯片工藝的制程越來越小,EUV光刻機的光源功率也必定會逐步上升,別看現(xiàn)在才兩百多瓦,后續(xù)很可能達到千瓦級別。
我們要想在穩(wěn)態(tài)微聚束光的SSBM光源上面做文章,除了深入研究這些理論數(shù)據(jù)之外,還要必須進行足夠多的實驗,才能夠發(fā)展技術(shù),超越國外那些機構(gòu)實驗室!
而且穩(wěn)態(tài)微聚束光的SSBM光源上升潛力比EUV光源更大,并且具備向更短波長擴展的能力。
下個月,新的設(shè)備和資金就能到位,到時候咱們就一邊學,一邊做實驗,絕對能夠攻破難關(guān)!”
錢,大夏新科現(xiàn)在是不缺的。
人,在人力資源部門全球瘋跑,高校師生們的共同努力下,雖然還有缺口,但是缺口并不算太大。
李賢審與周瑜交流之后,便徑直換上工作服,回到了實驗室。
而周瑜也沒有轉(zhuǎn)身回到自己的辦公室休息,而是帶著設(shè)備研發(fā)部主管鄭承瀚、曾經(jīng)的技術(shù)研發(fā)部主管,田健恒兩人,去往了另一個實驗廠區(qū)。
鄭承瀚上世紀畢業(yè)于哈工大夜校,現(xiàn)在一邊在設(shè)備管理研發(fā)部門,主持工作,一邊和哈工大的教授們保持著緊密聯(lián)系,時常會走這些教授的渠道,招聘哈工大的學生。
而前技術(shù)研發(fā)部主管田健恒,這位新科公司前董事長在上世紀從某知名大學拐來的高材生,現(xiàn)在已經(jīng)不用單人帶團隊搞技術(shù)研發(fā),但肩膀上的擔子卻沒有卸下,反而是更加努力學習著,讓以前的老工程師們,不會被時代拋棄。